Продукти

Начало / Продукти/ Титанови продукти / Коване и щамповане

Мишена за разпръскване от титан с висока чистота

Мишена за разпръскване от титан с висока чистота

Артикул: мишена за разпръскване от титан с висока чистота
Материал: Титан с висока чистота
Размери: Диаметър 63 x 37 mm, Диаметър 100 x 40 mm
Приложения: PVD, покритие, полупроводници.
Ключова дума: мишена за разпръскване за PVD
Техника: Коване, Шлифоване.
Чистота: над 99,95%
Условия на плащане: T/T при виждане, L/C.
Стандарти: ISO 9001:2015, EN10204 3.1, MTC/EN10204 3.2

Изпрати запитване

представяне на продукта

Описание

Мишените за разпръскване на титан с висока чистота се използват главно в електрониката и информационната индустрия, като интегрални схеми, съхранение на информация, дисплеи с течни кристали, лазерни памети, електронни контролни устройства и др., могат да се използват и в устойчиви на износване материали, високо температура и устойчивост на корозия, висок клас декоративни консумативи и други индустрии.

Характеристика

Оборудван с усъвършенствано магнетронно разпръскващо покритие, което използва система от електронен пистолет за излъчване и фокусиране на електрони върху материала, който се покрива, така че разпръснатите атоми следват принципа на преобразуване на импулса и се отделят от материала с по-висока кинетична енергия. В сравнение с продуктите на пазара, нашата цел за разпрашаване с висока чистота приема технологии за разпрашаване за тънкослойни материали. Той използва йоните, генерирани от източника, за да ускори концентрацията във вакуум, за да образува високоскоростен енергиен йонен лъч, който бомбардира твърдата повърхност и йоните обменят кинетична енергия с атомите на твърдата повърхност.

Име на предмета	Чистота на титан: 99,999%
Чистота	99.99%~99.995%
Форма	Кръгла или по ваше желание
Наличен размер	1. Кръгъл диаметър: 30-2000 mm, дебелина: 3.0 mm-300 mm 2. Плоча: Дължина: 200-500 mm Ширина: 100-230 mm Дебелина: 3-40 mm 3. Наличен е персонализиран
TQC стандарти	ISO9001:2008, SGS, Докладът на трета страна
Процесор	Ковани и обработени с CNC
Повърхност	Обръщаща се повърхност.
Приложения
Приложение	Галванопластика, химическо инженерство и нефтохимическа технология, медицинска индустрия, разделяне на полупроводници, материали за филмово покритие, покритие на електроди за съхранение, разпрашващо покритие, повърхностно покритие и индустрия за покритие на очила. Аерокосмическа промишленост (реактивни двигатели, ракети и космически кораби), военни, химически и петролни продукти, обезсоляване и хартиена промишленост, автомобилостроене, селскостопанска храна, медицина (протези на крайниците, ортопедични импланти и стоматологични инструменти и пълнители), спортни прибори, бижута и клетки телефони и др.

Химичен компонент

Вещ	N	C	H	Fe	O	мо	Ni	остатъци елемент	Макс Обща сума
Gr1	0.03	0.08	0.015	0.2	0.18	/	/	0.1	0.4
Gr2	0.03	0.08	0.015	0.3	0.25	/	/	0.1	0.4
Gr7	0.03	0.08	0.015	0.3	0.25	/	/	0.1	0.4
Gr12	0.03	0.08	0.015	0.3	0.25	0.2-0.4	0.6-0.9	0.1	0.4

Характеристика

Чистота: чистотата е един от основните показатели за ефективност на целевия материал, тъй като чистотата на целевия материал има голямо влияние върху представянето на филма.

На практика обаче също има различни изисквания за чистота на целевия материал.

Съдържание на примеси: твърдите примеси в целевия материал и порьозността на кислорода и влагата са основните източници на филм за отлагане. Различните употреби на целта имат различни изисквания за съдържание на примеси, например в полупроводников промишлен чист алуминий и алуминиеви сплави, съдържанието на алкални метали и съдържанието на радиоактивни елементи имат специални изисквания.

Колкото по-висока е чистотата на целта, толкова по-добра е производителността на филма. Нашата цел за разпръскване на титан с висока чистота може да отговори на чистотата от 99,995%.